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高纯电解铜箔微观结构控制技术

Jul 4th,2025 212 浏览量

极板表面处理创新

脉冲电沉积参数优化

控制指标

传统工艺

优化方案

性能提升

波形周期

50ms

30ms(正)+2ms(负)

晶粒尺寸↓0.8μm

峰值电流密度

8A/dm²

12A/dm²

沉积速率↑32%

铜离子浓度

85±5g/L

92±0.8g/L

面密度波动±0.7%

实验验证:阴极极化电位稳定在-0.42V(vs.SCE),铜箔<111>取向占比提高至78%

 

 

 

钛基阴极强化技术

■ 表面处理:  

   - 喷砂粗化:Ra=3.2μm→5.6μm(粘结力↑45%)  

   - 微弧氧化:膜厚50μm+纳米孔道(电流分布均匀度↑90%)  

■ 使用寿命:  

   普通钛板:6个月 → 强化钛板:26个月  
电解铜

性能对比​(支撑电解铜箔生产)

故障类型

常规阴极发生率

强化阴极发生率

降幅

铜箔起皱

18次/月

3次/月

83.3%

剥离强度不足

7.2%

0.8%

88.9%